国产EDA技术先驱 | 培风图南半导体

苏州培风图南半导体有限公司（以下简称“培风图南”）成立于2021年，由中国知名的半导体仿真企业——苏州珂晶达电子有限公司与墨研计算科学（苏州）有限公司合并组建。自成立以来，培风图南全面融合了珂晶达在半导体工艺与器件仿真（TCAD）领域十余年的技术积累，致力于为中国晶圆制造提供自主可控的全流程EDA软件及工艺研发服务解决方案，已成为中国EDA领域不可或缺的重要力量。

作为原珂晶达核心技术团队的延续，培风图南承接了其在数值仿真算法、物理建模和晶圆制造应用方面的深厚积累。公司不仅完整保留了珂晶达原有的产品线与技术服务体系，还在此基础上实现了多项关键技术（的）突破。研发团队中技术人员约占80%，核心成员多来自于原珂晶达团队，拥有超过20年的半导体仿真研发经验，是中国EDA领域最早期的技术开拓者之一。

培风图南构建了覆盖光学邻近效应修正（OPC）、工艺器件仿真（TCAD）、3D表面结构仿真（ProcEmu）、TCAD-SPICE快速建模等的半导体制造仿真软件，形成了业界完整的设计-工艺协同优化（DTCO）工具链。

• Mozz TCAD：对标国际的自主仿真平台 基于珂晶达的技术积淀，培风图南自主研发的3D TCAD仿真工具Mozz (TCAD)不断迭代，目前已发布2024.6版本，率先完成FinFET和Nanosheet等先进器件的全流程仿真，并通过多家行业龙头客户的验收。
• 专项优化：宽禁带半导体仿真性能领先 在碳化硅等宽禁带半导体仿真等关键应用场景中，培风图南凭借成熟的自研算法，使软件的仿真速度可达国际同类工具的10倍以上，内存效率亦显著提升，且具备100%自主知识产权。

培风图南正加快构建基于数字孪生技术的“虚拟晶圆厂”平台，携手制造企业推动国产EDA工具落地，以系统级创新助力中国半导体制造迈向新范式。