国产EDA技术先驱 | 培风图南半导体

【深圳，2024年4月1日】 —— 在今日举行的第七届国际智能工业大会上，苏州培风图南半导体有限公司（以下简称“培风图南”）在智能制造板块（IM）中发表了题为“基于现代TCAD框架的光电器件仿真”的重要报告。本次大会吸引了全球工业智能化领域的众多专家和企业，共同探讨智能制造的最新技术和应用。

在报告中，培风图南TCAD技术总监深入介绍了公司在光电器件仿真技术方面的最新进展。他阐述了现代TCAD框架如何使设计师能够在早期阶段准确预测器件性能，以及如何通过仿真优化器件设计和制造工艺。此外，他还分享了培风图南在提高仿真精度和效率方面的创新方法，以及这些技术如何助力客户加速产品开发和市场投放。

报告强调了TCAD技术在智能制造中的关键作用，特别是在光电器件领域。通过使用先进的仿真工具，设计师可以减少物理原型的需求，降低成本，并缩短产品上市时间。培风图南还展望了未来TCAD技术的发展趋势，以及如何通过持续的技术创新来满足行业不断增长的需求。

培风图南市场总监对此次演讲表示赞赏，并表示：“我们很荣幸能在这样一个高水平的国际会议上展示我们的技术和专业知识。我们相信，通过与全球同行的交流与合作，我们能够共同推动智能制造技术的进步。”

第七届国际智能工业大会为期两天，涵盖了智能制造、智能系统、人工智能等多个板块，旨在促进全球工业智能化领域的交流与合作。培风图南的参与不仅展示了公司在智能制造领域的专业实力，也为与会者提供了宝贵的学习和合作机会。