国产EDA技术先驱 | 培风图南半导体

【苏州，2024年7月31日】—— 苏州培风图南半导体有限公司正式发布了光学临近校正（OPC）套件MoSiZen 2024.7版本，这是国内领先的一种良率提升工具包。包含建模仿真软件MoSiZen Model，掩膜修正计算软件MoSiZen MOPC，掩膜修正后验证计算软件MoSiZen OPCV，配合版图显示工具及套件MoSiZen LayoutView，以及亚分辨率辅助图形添加工具MoSiZen SRAF，设计规则检查工具 MoSiZen DRC，构成了一个完整的工业OPC软件套件。

MoSiZen OPC 系列2024.7版本为拥有全部自主知识产权的国产EDA (Electronic Design Automation) 工具，致力于提高晶圆厂制造良率，助力国内半导体晶圆制造业腾飞。